第209章偷师学艺,零件拼凑
时间一晃,又一个月过去。
关于光刻机的研究,依旧没有什么进展,这让陈锋备受打击。
为了寻找新的研究思路,陈锋决定暗访台积电,全球最先进的光刻机制造商之一,去学习他们的工艺技术。
希望能够从中得到一些启示,找到一纳米光刻机的制造思路。
陈锋来到了台积电的工厂,他假扮成一名实习生,深入到生产车间,仔细观察光刻机的生产过程。
陈锋注意到,台积电的光刻机在刻蚀芯片时,采用的是一种叫做“极紫外光”的光源。这种光源的波长非常短,只有十三纳米,因此可以将芯片的制程推进到五纳米。陈锋开始思考,如果能够找到一种更短波长的光源,是否就可以将芯片的制程推进到一纳米呢?
在工厂参观的过程中,陈锋还发现了一个关键的技术细节:台积电的光刻机在刻蚀芯片时,采用了一种特殊的涂覆技术,可以使得光源的波长更加集中,从而提高刻蚀的精度。这给了陈锋很大的启发,他开始思考,是否可以通过改进涂覆技术,来提高光刻机的刻蚀精度。
带着这些启示,陈锋回到了水木大学。他开始查阅大量资料,寻找关于极紫外光和涂覆技术的研究。他发现,极紫外光的波长范围是十到一百纳米,而他所需要的一纳米光刻机,需要的光源波长应该在十纳米以下。然而,目前我国还无法制造出这么短波长的光源。
陈锋并没有因此放弃,他开始研究各种光源,希望能够找到一种可以替代极紫外光的光源。
经过一段时间的努力,他终于发现了一种叫做“软X光”的光源。这种光源的波长在十纳米左右,虽然比极紫外光略长一些,但是已经非常接近了。
而且,软X光的强度比极紫外光要强得多,可以更好地刻蚀芯片。
陈锋开始设计一纳米光刻机,他将软X光作为光源,设计出一台全新的光刻机。经过多次试验,陈锋发现,他的光刻机可以将芯片制程推进到一纳米。这让他非常激动,这意味着他的研究取得了重大突破。
虽然研究取得了重大的突破,但距离研究完成还有一段路要走,起码一纳米光刻机的理论图纸还未绘制出来。
所以,在获得了一纳米光刻机的攻克思路后,陈锋立马来到他的“秘密研究基地”。
“秘密研究基地”里,陈锋立即开始着手绘画、设计和完善一纳米光刻机制造的理论图纸。他深知,这是一项艰巨的任务,需要将他在台积电学到的知识和自己的研究成果结合起来,设计出一台完全符合一纳米制程要求的光刻机。
首先,陈锋在图纸上详细绘制了光刻机的整体结构,包括光源、光学系统、控制系统、机械结构和电气系统等部分。在绘制
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