的只剩下一家公司后也会让瑞星科技公司失去动力的。

　　本来市场就是靠着产品技术实力来说话，说破了大天，结果产品技术不行什么都是虚的。

　　光刻机是昂贵的工具机，英特尔作为深紫外光光刻机的推动者，也是早就希望光刻机制造商能够推出这类的光刻机，但是现阶却是没有一家光刻机制造商能够量产，因为这个技术实在太难了，现在华兴集团公司也只是掌握了部分的技术。

　　杨杰也是让瑞星科技公司加快研制深紫外光光刻机的研发进度，也是希望能够在五年内能够让大部分的技术变得成熟起来，至少在抢在艾斯摩尔公司之前将这套深紫外光光刻机实现量产。

　　因为沉浸式光刻机的193纳米波长的氟化氩光源极限制程工艺只能达到22纳米，虽然说芯片制造商能够使用193纳米氟化氩沉浸式光刻机使用多重成像技术能够勉强地将制程工艺提升到16到14纳米节点甚至能够达到乃至10及7纳米节点，但是这种多重曝光技术增加曝光次数，导致成本显著上升，良率、产出大幅下降的问题。

　　如果这个时候深紫外光光刻机还不能实现量产的话，那么国内的制程工艺也就陷入了停滞状态，这个是杨杰不希望看到的。

　　他是希望在28到14纳米制程工艺节点的时候深紫外光光刻机就能实现量产，继续推动制程工艺往下走下去。

　　相比沉浸式光刻加三重成像技术，深紫外光光刻技术能够将金属层的制作成本降低9%，过孔的制作成本降低28%。

　　随着制程工艺逐渐逼近极限，深紫外光光刻机的光源需要不断地提升，镜组的孔径数值要更高，这些都是人类的工艺的极限挑战。

　　不过作为一个技术狂，像这样的技术的极限挑战却是让杨杰乐此不疲，要是不将这些拦在自己面前的技术困难给攻破，他是不能容忍的。

　　到时候他也是很希望自己很牛掰地跟媒体说：“如果我们交不出极紫外光光刻机的的话，摩尔定律就会从此停止。”

　　这个感觉才是让感科技工作者感觉到最爽的。

　　前世的时候，因为极紫外光光刻机的技术难度、需要的投资金额太高，另外两大微影设备厂──霓虹国的尼康和佳能都是放弃开发，艾斯摩尔公司成为半导体业能否继续冲刺下一代先进制程，开发出更省电、运算速度更快的电晶体的最后希望。

　　现在杨杰是希望自己旗下的瑞星科技公司成为这个最后的希望，能够让国内的半导体产业继续在这方面领先。

　　如果能做到这一点，这也是他这一生当中做得最骄傲的事情之一。

　　现阶段来说，深紫外光光刻机的原理已经不是什么秘密，做出深紫外光光刻机的原理样机很多公司都是能够做到的，但是在光源、镜组、光刻掩膜光罩、光刻机方面却是存在着大量需要攻克的工程技术问题，但是国内外很多研究机构和公司企业对这些难关的解决方案正在研究当中，一旦将这些难题解决，极紫外光刻技术在大规模集成电路生产应用过程中就不会有原理性的技术难关了。

　　杨杰深知这是个无比浩大的工程，光是靠华兴集团公司也是没办法做到的，只能和公司的这些供应商联手去解决了。11

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